低溫等離子體廢氣處理設備的技術機理

 

等離子體去除惡臭的方法有兩種:一種是在高能電子的作用下，打開一些有害氣體分子的化學鍵，使其直接分解成單質原子或無害分子；另一種是在***量高能電子、離子、激發態粒子、氧自由基、羥基自由基(自由基基因有不成對電子，活性強)的作用下氧化分解成無害產物。主要有以下幾個過程:

 

1.在高能電子的作用下，產生強氧化自由基o、OH和OH2。

 

2.有機分子被高能電子碰撞激發，原子鍵斷裂形成小碎片群和原子。

 

3.o、OH、HO2與被激發的原子、有機分子、廢氣處理公司的破團等自由基反應，有機分子***終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率與電子能量和有機分子的鍵能有關。

 

根據除臭機理分析，主要發生以下反應:

 

H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

 

NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

 

H2S、NH3和臭氣濃度的去除率分別可達91.9%、93.4%和93.6%。

 

根據上述反應，惡臭成分轉化為小分子如氮氧化物、二氧化硫、二氧化碳、H2O等。接受治療后。在一定濃度下，各種反應轉化率在95%以上，惡臭濃度低，所以產物濃度極低，可以被周圍***氣接受。